
[202026-06-03]
百科姓起名百科
时间:202026-06-03 8:20 来源: ntenvz.hamonim.com 作者: 百科
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本文将从技术原理、核心优势、应用场景及落地实践等方面,对该技术进行系统性解析。
一、先进工艺节点的检测挑战与技术缺口
当前半导体制造技术正经历关键变革:鳍式场效应晶体管逐步被全环绕栅极(GAA)纳米带晶体管替代,中段制程(MOL)因多重图形化技术的应用,堆叠复杂度持续增加。这一变革导致致命缺陷多隐匿于 3D 结构内部,传统光学检测手段难以有效识别。
同时,先进工艺节点的缺陷呈现显著的产品特异性,集中分布于特定工艺 - 版图组合的 “热点区域”,此类缺陷由芯片设计固有的版图特征引发,成为影响良率的核心因素。
行业面临的核心矛盾在于:电子束电压衬度检测是识别电学缺陷的关键技术,但传统电子束检测采用光栅扫描模式,效率远低于光学检测,无法匹配大批量生产的需求。DirectScan 技术的出现,为破解这一矛盾提供了可行路径。

二、DirectScan 核心技术架构:PointScan 的创新逻辑
DirectScan 检测方案由eProbe 电子束检测工具、FIRE GDS 版图分析平台及Exensio 大数据智能分析平台三大核心组件构成,其技术突破的核心在于PointScan 扫描技术对传统电子束检测逻辑的重构,主要体现在以下三方面:
1
设计感知驱动的靶向检测
传统电子束检测采用无差别光栅扫描,需覆盖包括介质区域在内的全部区域,且无法识别被测目标的图形特征;PointScan 技术具备非接触式电学测试特性,可精准跳转至目标器件的关键位置(如焊盘、接触点),仅对有效检测区域实施电压衬度检测,完全规避介质区域的无效扫描,实现 “按需检测”。

2
检测效率的量级提升
通过 FIRE 平台的精细化版图分析,可精准筛选出需检测的 “关键区域”,大幅缩减检测范围:
后段制程金属 3 层通孔检测:仅需扫描总可检测面积的 2.5%
中段制程栅极 - 漏极短路检测:仅需扫描总接触点的 1%
栅极残筋检测:可规避 50%-75% 的介质区域,检测面积缩减至传统方案的 10% 以下
基于上述优化,PointScan 技术的检测吞吐量可达传统单束电子束检测设备的 20-100 倍,每小时可完成数十亿个被测器件的扫描。
3
设计感知学习与属性分析能力
DirectScan 与 FIRE 平台的深度整合,可实现跨多层版图的属性提取,包括触点类型(漏极 / 栅极)、晶体管阈值电压、极性、与扩散区隔离槽的距离等关键参数。
eProbe 输出的 KLARF格式数据含专属属性识别码,可与版图特征精准匹配,工程师可直接计算特定属性或属性组合对应的缺陷率,快速定位高风险晶体管类型与版图设计方案,为工艺优化提供数据支撑。
三、高难度场景的应用突破
PointScan 技术的低电荷沉积特性,使其在传统电子束检测难以覆盖的场景中实现突破:
背侧供电网络(BSPDN)晶圆检测
键合晶圆形成的绝缘层会阻碍电荷传导,导致传统电子束检测出现电荷累积、电子束偏折与失焦问题;PointScan 技术大幅降低单位面积电荷沉积量,有效缓解上述问题,已完成实际应用验证。
3D DRAM检测
3D DRAM 的结构特性同样易引发电荷累积,此前检测难度较高,DirectScan 技术的应用使该类器件的精准检测成为可能。
DRAM 阵列短路检测
独有的可控 “充电 - 检测” 功能,可在指定位置施加电荷后跳转至目标区域采集电压衬度信号,使特定岛状节点呈现高亮状态,清晰识别与浮空相邻触点的短路问题,该功能为传统光栅扫描技术所不具备。
四、行业落地实践与全流程应用
自 2022 年初起,eProbe 检测系统已在多家先进逻辑芯片制造工厂落地,目前两套设备投入大批量生产,第三套设备处于产能爬坡阶段,应用场景覆盖半导体制造全流程:
先进逻辑芯片制造
中段制程:GAA 栅极 - 漏极短路、栅极接触孔开路、栅极外延层 / 硅化物层开路检测
后段制程:M0 层、1X 层、2X 层系统性接触孔开路与金属布线短路检测
背侧供电网络:电源通孔、源极 / 漏极通孔接触孔开路与短路检测
随机逻辑电路漏电情况评估
先进 DRAM 制造(2024-2025 年)
外围电路:栅极 - 栅极残筋短路、栅极 - 漏极短路、字线 - 字线短路与开路检测及缺陷定位
存储阵列:基于可控 “充电 - 检测” 技术的存储节点短路检测
技术总结
在半导体制程向更精密 3D 架构演进的背景下,检测技术的创新成为保障良率的关键。DirectScan 方案通过 PointScan 靶向扫描技术、设计感知分析能力与产品特异性缺陷学习功能的融合,在保留电子束检测高灵敏度的基础上,实现了检测吞吐量的量级提升,同时破解了高难度场景的检测难题。
该技术不仅解决了先进工艺节点下缺陷“难识别、难检测” 的问题,更推动半导体检测从 “缺陷识别” 向 “工艺优化赋能” 升级,为下一代半导体制造提供了核心技术支撑和全新路径。
" alt="DirectScan 技术解析:下一代半导体电子束检测的创新路径与应用">DirectScan 技术解析:下一代半导体电子束检测的创新路径与应用


回顧TWICE在台北大巨蛋最終場演出時,周子瑜唱到一半淚灑舞台,感動地說,「我的夢想就是和成員們一起來到高雄和台北演唱會,所以謝謝你們讓我實現了這個願望」,她流下感動的眼淚,成員們也紛紛上前擁抱安慰。
隨著演唱會落幕,周子瑜也在IG上發文,謝謝這三天台北滿滿的能量,未來請繼續和她一起走下去!而TWICE的官方IG也曬出成員們在台北大巨蛋後台的跳舞影片,粉絲們已經迫不及待再次和TWICE在台灣相遇。

台北/李承庭、陳建國 責任編輯/施佳宜
" alt="TWICE Sana現身101活動粉絲擠爆現場 透露「這款鳳梨酥」很好吃">TWICE Sana現身101活動粉絲擠爆現場 透露「這款鳳梨酥」很好吃

弗诺瑟姆(Furnotherm)在容器玻璃熔炉建造领域又达成了一个里程碑——该公司受托承担了一项极具挑战性的项目,即为尼日利亚的贝塔玻璃(Beta Glass)重建一座250吨、70平方米的容器玻璃熔炉。这座熔炉由意大利的BDF工业公司(BDF Industries)负责设计和设备供应。该项目要求进行周密规划、全面执行,并在极短的时间内完成交付。
工作范围包括:
耐火材料:拆除和重新安装2000公吨耐火材料,包括热密封。钢材:约90吨钢结构的拆除、改造和重新安装。熔炉设备安装:排气通风系统、风门、批量装料机、助推器、探头、摄像头以及冷却塔迁移。工作端及前炉设备:安装气体还原装置、鼓风机、燃烧器以及燃烧和冷却撬块。公用设施:在26个回路中用不锈钢更换旧水管,并为工作端铺设新的空气和燃气管道。燃烧和冷却空气管道:五个前炉的燃烧/冷却管道、喷嘴、斜向管道、鼓风机和风扇的制造与安装。电气工程:安装 MCC 柜、电缆、电缆桥架以及熔炉、作业端和前炉的仪表。升温与碎玻璃填充。
Furnotherm在48天内成功完成了全部工作范围。这在玻璃容器行业是一项纪录。
Furnotherm感谢Beta Glass团队,特别是Beta Glass的首席运营官Jagdish Agarwal,感谢他们的信任、指导和专业技术,这些是项目成功的关键。
公司也感谢BDF工业公司在该项目成功调试中提供的宝贵支持。
小玻编译

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Furnotherm:为Beta Glass进行的破纪录玻璃熔炉重建工程,经验交流